中芯国际N+1代工艺将于2021年正式投产
中芯国际是大陆的晶圆代工厂，它的一举一动令人动容。
最近有报道称，经过14nm工艺的大规模量产，中芯国际的N+1代工艺已进入了客户导入阶段，预计2021年可实现量产。
作为回应，中芯国际表示，其第一代FinFET14nm工艺已在2019年第四季度投产，第二代FinFETN+1工艺已进入客户导入阶段，预计将在2020年底实现小批量试产。
根据这一时间表推测，中芯国际N+1代工艺将于2021年正式投产。
N+1是中芯国际为其第二代先进工艺设计的代号，但并没有明确的数字节点，只是表示N+2工艺与14nm工艺相比，性能提高了20%，功耗减少了57%，逻辑面积减少了63%,SoC面积减少了55%，之后N+2工艺的性能和成本有所提高。
八月末，中芯国际曾表示，N+1工艺进展顺利，已进入客户产品验证阶段。
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